半導体用のPSA酸素発生器

高純度ガス供給：半導体製造にはガス純度に関する厳しい要件があり、高純度の酸素はリソグラフィ、クリーニング、その他のリンクに不可欠です。圧力スイング吸着技術の助けを借りて、PSA酸素発生器は95％±3％の純度で酸素を生成し、酸化物層の形成とウェーハ洗浄の要件を満たし、従来のガスシリンダー酸素供給の不純物汚染のリスクを回避します。
プロセスの安定性を確保します：半導体生産ラインには、連続的で安定したガス供給が必要です。 PSA酸素発電機は、二重吸着塔を使用して交互に動作し、PLCインテリジェントコントロールを通じて、{24-途切れない酸素供給を達成し、手動のボトル交換による生産の中断を回避し、薄膜堆積やエッチングなどの空気圧に敏感なプロセスに適応することができます。
コストを削減し、スペースを最適化します。液体酸素貯蔵タンクと高圧ガスシリンダーと比較して、PSA酸素発生器は現場で酸素を生成し、輸送コストと貯蔵コストを大幅に削減します。フットプリントが小さく、モジュール式拡張をサポートしており、半導体工場のクリーンワークショップでスペース利用を最大化するニーズを満たしています。長期使用コストは、従来の方法よりも約20％低いです。
特別なプロセスに適応する：高度なプロセスでは、一部の特別なプロセスでは、酸素濃度を正確に制御する必要があります。 PSA酸素発生器は、吸着圧力と分子ふるい比を調整して、3D NANDフラッシュメモリ製造の特別なプロセス要件を満たすことにより、酸素出力純度（95％-99}。9％）を柔軟に調整できます。
環境にやさしく、メンテナンスが簡単：PSAテクノロジーは化学試薬を必要とせず、酸素生産プロセスは、半導体産業の環境保護基準を満たす有害物質を放出しません。この機器は、最大3-5年のメンテナンスサイクルを備えた食品グレードのステンレス鋼とセルフクリーニングの分子ふるいを使用しており、高クリーン性のウェーハ製造環境に適しています。